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EcoPeeler KF5000 Clean Series

Product Information

□  Functions

□  Primary Functions

  • ✓  アッシング前処理洗浄
  • ✓  ダメージレス洗浄
  • ✓  エッチング・アッシング残渣除去
  • ✓  金属酸化層の除去
  • ✓  有機汚染の除去
  • ✓  金属のウェットエッチング
  • ✓  有機デバイスの残渣除去
  • ✓  各材料に対するエッチング制御

□  Additional Functions

  • ✓  薬液の表面張力の最適化
  • ✓  金属表面への防食被膜の形成
  • ✓  SiO2表面への親水性/疎水性被膜の形成
  • ✓  SiN表面への親水性/疎水性被膜の形成
  • ✓  Si表面への防食被膜の形成
  • ✓  Slight etching機能
  • ✓  特定の金属酸化膜除去機能(銅、タングステン、モリブデンなど)

□  Features

□  有機材料にダメージレス

EcoPeeler KF5000 Cleanシリーズは、軽微に物理吸着している付着油分などの有機物の除去性は高いですが、きちんと成膜された有機物に対しては侵襲性がありません。この特性により、有機材料表面の汚染除去、残渣除去を基材にダメージレスで行うことができます。

□ アッシング前処理洗浄

ドライエッチング後のレジスト除去をアッシングで行いたいが、ドライエッチング残渣が多く、アッシング後の残渣除去が難しいときにEcoPeeler がおすすめする残渣除去方法です。 EcoPeeler KF5000 Cleanシリーズの最大の特徴である機能付加は、材料にダメージのない薬液ベースに、残渣除去性、剥離性、溶解性などの特徴ある機能をデバイスに合わせて付与できます。
  
このように、材料選択性とダメージレス洗浄の機能を活用し、アッシング前に材料にダメージフリーでレジスト表面、加工面表面に付着したエッチング残渣を除去あるいは脆弱化します。これにより、アッシング後の残渣が低減あるいは除去しやすい状態となり、プロセス設計が容易になります。

□ ダメージレス洗浄

配線ピッチが微細化し、残渣そのものの量は少なくなっているけれども、微量残渣や異物の除去をしなくてはならない工程に最適なアプリケーションです。
EcoPeeler KF5000 Cleanシリーズの特徴である材料選択性により配線などの材料に対してダメージなく、残渣成分を除去する機能を付与できます。
またアッシング前処理洗浄と組み合わせてプロセス構築することで、アッシングプロセスを低負荷化してパターンに対するダメージを低減することも可能です。

□ 充実した付加機能

EcoPeeler KF5000 Cleanシリーズは、KF5000シリーズのpH制御性、薬液の安定性はそのままに、お客様の要望に沿った様々な機能を付与できるシリーズです。
付与できる機能は、特定の材料に対する防食、被膜形成、表面張力の制御、特定の材料のエッチングなど様々です。詳細についてはこちら  をご参照ください。

□  高いpH制御と汚染除去性

EcoPeeler KF5000 Cleanシリーズは、リン酸緩衝液を基材とした水溶液で、非常に高いpH制御性を持ちます。また、リン酸基質であり汚染の除去性が高く、各材料に対してのpH最適化をすることで、基材にダメージなく汚染を除去することが可能になります。

□  高い金属酸化物除去性

EcoPeeler KF5000 Cleanシリーズの基材であるリン酸緩衝液は、金属イオンとリン酸イオンとの間での錯形成により金属表面の酸化層を効果的に除去する機能を持ちます。また、特定の金属表面では不動化皮膜を形成するため、薬液条件と処理条件の最適化により、金属表面の酸化物を完全に除去した後、不動化皮膜を形成することも可能となります。この制御技術がKF5000シリーズの基盤技術となります。

□  エッチング選択性

EcoPeeler KF5000 Cleanシリーズは、そのpH制御性により電位-pH図(Pour-baix Diagram)を効果的に活用することができます。各材料に対して、基材濃度を一定にすることで、pHと電位の関係を電気化学的に計測することができます。これにより、各材料に適したpHを選択することができるようになり、例えば積層膜で特性の材料だけをウェットエッチングしたい場合の最適化や、ガルバニック腐食が生じないpH域の特定などエッチングの選択性を効果的に行うことができます。


□  主なグレード

□ Main Products(代表的なグレードの例)

品番 主要用途 その他用途 溶媒 pH
KF5000 No.4 金属の選択的エッチング アッシング残渣除去 H2O 〜 2
KF5000 No.13 金属の選択的エッチング アッシング残渣除去 H2O 〜 2
KF5050A 金属配線残渣除去 コンタクトホール洗浄 H2O 2〜4
KF5025 コンタクトホール洗浄 金属配線残渣除去 H2O 6〜7

◇  Equipment / Method

◇  洗浄装置適応性

◇ 装置適応表(代表的なグレードの例) 
品番 Dip スプレー 枚葉 パドル 直接リンス 循環使用
KF5000 No.4
KF5000 No.13
KF5050A
KF5025
 ▲:定期的な洗浄が必要

◇ 装置部材適応性

詳細な適応性についてはお問い合わせください。

◇ 装置部材適応表(代表的なグレードの例) 
品番 温度 ステンレス PVC PP PE フッ素樹脂 シリコーン樹脂
KF5000 No.4 25 [℃]
KF5000 No.13 25 [℃]
KF5050A 25 [℃]
KF5025 25 [℃]
 :高温での使用に関してはご相談ください。

□  他の薬液との接触

詳細、その他の薬液についてはお問い合わせください。

◇ 薬液接触安全性(無機溶液)(代表的なグレードの例)
品番 塩酸 硫酸 硝酸 過酸化水素水 フッ化水素酸 アンモニア水
KF5000 No.4 注1 注2 注1 注1、2
KF5000 No.13 注1 注2 注1 注1、2
KF5050A 注1 注2 注1 注1
KF5025 注1 注2 注1 注1
 注1:高濃度の場合、発ガスの恐れあり。
 注2:高濃度の場合、発熱の恐れあり。
◇ 薬液接触安全性(有機溶液)(代表的なグレードの例)
品番 TMAH IPA PGMEA/PGME DMSO NMP DMF
KF5000 No.4 注1 注2 注2 注2 注2 注2
KF5000 No.13 注1 注2 注2 注2 注2 注2
KF5050A 注3 注2 注2 注2 注2 注2
KF5025 注3 注2 注2 注2 注2 注2
 注1:高濃度の場合、発熱の恐れあり。
 注2:結晶物の析出あり。
 注3:高濃度の場合、発ガスの恐れあり。

◇  Experiment:ビーカー試験の器具の材質適応性

◇  ビーカー・容器材質適応性

◇ ビーカー・容器材質適応性 
品番 ホウケイ酸ガラス 石英 ステンレス PE PP PET フッ素樹脂 TPX
KF5000 No.4 注1
KF5000 No.13 注1
KF5050A 注1
KF5025 注1
 注1:一時的な使用に限る

◇ 治具・器具材質

◇ 治具・器具材質適応性
品番 SUS PVC PP PE ABS PS アクリル フッ素樹脂 セラミック
KF5000 No.4 注1 注2 ×
KF5000 No.13 注1 注2 ×
KF5050A 注1 注2 ×
KF5025 注1 注2 ×
 注1:事前のご確認をお願いいたします
 注2:長期間の使用は不可

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☆ 製品について

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